在高校的微电子、半导体物理实验中，光刻实验是必不可少的实验之一。光刻实验对环境的洁净度要求很高，一般高校在没有财力建设洁净室的情况下，净化工作台成为了进行光刻实验不可缺钞少的公要设备。一般来说光刻实验进行的步骤有∶旋涂光刻胶;光刻胶的前烘;曝光，显影;后烘等步骤构成。在这些实验步骤中所涉及的化学药品较多，而这些化学药品的溶剂多为苯类披质，如果处理不当将给实验人员带来较大的伤害。同时，由于实验的步骤较多，实验人员需要频絜地从净化工作台中取、放物品，这将引入大量的灰尘影响工作时的洁净度。因此，设计一种低成本，有效租隔有毒气体，提高工作时洁净度的净化工作台显得十分重要。